Charged particle beam device

WO2014192379 Art A1 4. Dezember 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014192379
Aktenzeichen: EP14803828
Anmeldetag: 19. März 2014
Veröffentlichung: 4. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/09H01J37/16H01J37/20H01L21/677H05K9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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