Gas barrier film, and preparation method therefor
WO2014193199
Art A1
4. Dezember 2014
Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014193199
- Aktenzeichen
- EP14803327
- Anmeldetag
- 30. Mai 2014
- Veröffentlichung
- 4. Dezember 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B32B27/06B32B27/18B32B37/02C08J5/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cheil Industries Inc.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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