Photosensitive electroconductive film, method for forming electroconductive pattern using same, and electroconductive pattern substrate

WO2014196154 Art A1 11. Dezember 2014

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014196154
Aktenzeichen: EP14807854
Anmeldetag: 27. Mai 2014
Veröffentlichung: 11. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027G03F7/033G06F3/041H01B5/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von