Sputtering target for magnetic recording medium

WO2014196377 Art A1 11. Dezember 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014196377
Aktenzeichen: EP14808184
Anmeldetag: 23. Mai 2014
Veröffentlichung: 11. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/00B22F3/14C22C1/05C22C5/04C22C32/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von