Method of manufacturing transparent substrate provided with cured film, photosensitive resin composition, photosensitive element, and electrical component

WO2014196546 Art A1 11. Dezember 2014

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014196546
Aktenzeichen: EP14808396
Anmeldetag: 3. Juni 2014
Veröffentlichung: 11. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/029G03F7/031G06F3/041H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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