Processing system for non-ambipolar electron plasma (nep) treatment of a substrate with sheath potential

WO2014197146 Art A1 11. Dezember 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014197146
Aktenzeichen: EP14808253
Anmeldetag: 2. Mai 2014
Veröffentlichung: 11. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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