Resin composition, photosensitive resin composition, insulating film and method for producing same, and electronic component
WO2014199800
Art A1
18. Dezember 2014
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014199800
- Aktenzeichen
- EP14810577
- Anmeldetag
- 23. Mai 2014
- Veröffentlichung
- 18. Dezember 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08L101/00C08K5/548C08L25/18C08L61/10G03F7/023G03F7/038G03F7/075H05K3/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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