Photosensitive resin composition, method for producing pattern, method for manufacturing organic el display device or liquid crystal display device, and cured film

WO2014200013 Art A1 18. Dezember 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014200013
Aktenzeichen: EP14810827
Anmeldetag: 11. Juni 2014
Veröffentlichung: 18. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F12/22C08F20/26G03F7/039H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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