Method to pattern<10 micrometer conducting and passivating features on 3d substrates for implantable devices

WO2014200602 Art A2 18. Dezember 2014

Anmelder: Lawrence Livermore National Security, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014200602
Aktenzeichen: EP14810575
Anmeldetag: 17. März 2014
Veröffentlichung: 18. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lawrence Livermore National Security, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lawrence Livermore National Security

Lawrence Livermore National Security ist die Betreibergesellschaft des Lawrence Livermore National Laboratory, eines US-Forschungslabors für nationale Sicherheit und Energie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Fertigungstechnik, ergänzt durch Optik und Messtechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2002 bis 2025.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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