Wafer-Based Light Source Parameter Control

WO2014200821 Art A1 18. Dezember 2014

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014200821
Aktenzeichen
EP14811633
Anmeldetag
5. Juni 2014
Veröffentlichung
18. Dezember 2014
Rechtsraum
WO
IPC
G03B27/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Cymer, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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