Cantilever beam structure with matching stress and manufacturing method therefor

WO2014201745 Art A1 24. Dezember 2014

Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014201745
Aktenzeichen
EP13887039
Anmeldetag
17. Juli 2013
Veröffentlichung
24. Dezember 2014
Rechtsraum
WO
IPC
B81B1/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences

Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.

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