Tantalum oxide film removal method, and removal device

WO2014203599 Art A1 24. Dezember 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014203599
Aktenzeichen: EP14813534
Anmeldetag: 9. April 2014
Veröffentlichung: 24. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/308H01L21/304H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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