Plasma processing apparatus and plasma processing method

WO2014203719 Art A1 24. Dezember 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014203719
Aktenzeichen: EP14813376
Anmeldetag: 3. Juni 2014
Veröffentlichung: 24. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/509H01L21/3065H01L21/31H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

19.779 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von