Composition for electricity storage devices, slurry for electricity storage devices, electricity storage device electrode, method for producing electricity storage device electrode, protective film, method for producing protective film, and electricity storage device
WO2014203767
Art A1
24. Dezember 2014
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014203767
- Aktenzeichen
- EP14813703
- Anmeldetag
- 10. Juni 2014
- Veröffentlichung
- 24. Dezember 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01M4/62H01G11/22H01M2/16H01M4/13H01M4/139H01M4/48
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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