Method for manufacturing n-type organic semiconductor thin film

WO2014203887 Art A1 24. Dezember 2014

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014203887
Aktenzeichen: EP14814304
Anmeldetag: 17. Juni 2014
Veröffentlichung: 24. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/368B05D7/24B32B9/00C07H15/203H01L51/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Organische Chemie Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von