Mask blank substrate, mask blank, transfer mask, manufacturing methods therefor, and manufacturing method for semiconductor device

WO2014203961 Art A1 24. Dezember 2014

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014203961
Aktenzeichen: EP14813959
Anmeldetag: 19. Juni 2014
Veröffentlichung: 24. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/60C03C17/09C03C19/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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