Spiegel für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Bearbeitung eines Spiegels

WO2014207014 Art A1 31. Dezember 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014207014
Aktenzeichen: EP14748130
Anmeldetag: 25. Juni 2014
Veröffentlichung: 31. Dezember 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G02B27/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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