Metal oxide thin film, method of producing same, and coating solution for forming metal oxide thin film used in said method

WO2015004890 Art A1 15. Januar 2015

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015004890
Aktenzeichen: EP14823486
Anmeldetag: 4. Juli 2014
Veröffentlichung: 15. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/368G02F1/1368H01L21/336H01L29/786H01L51/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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