Sputtering target and method for manufacturing same

WO2015004958 Art A1 15. Januar 2015

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015004958
Aktenzeichen: EP14823830
Anmeldetag: 27. März 2014
Veröffentlichung: 15. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22D21/00C22C28/00C22F1/16C22F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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