Compound, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film using same, resist-coated mask blank, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2015005051 Art A1 15. Januar 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015005051
Aktenzeichen: EP14823105
Anmeldetag: 11. Juni 2014
Veröffentlichung: 15. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/00C07C309/15C07C311/16C07C327/24C07C381/12C07D209/48C07D327/08C07D333/76G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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