Liquid composition for cleaning/removing copper-containing adhering matter from surface of oxide comprising indium, gallium, zinc, and oxygen (igzo), method for cleaning igzo surface using said liquid composition, and substrate cleaned using said method for cleaning

WO2015005053 Art A1 15. Januar 2015

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015005053
Aktenzeichen: EP14822516
Anmeldetag: 12. Juni 2014
Veröffentlichung: 15. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/06C11D7/26C11D7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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