Substrate processing apparatus, device manufacturing system, device manufacturing method, and pattern formation apparatus

WO2015005118 Art A1 15. Januar 2015

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015005118
Aktenzeichen: EP14823118
Anmeldetag: 25. Juni 2014
Veröffentlichung: 15. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/027H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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