Compound containing phenolic hydroxy group, photosensitive composition, composition for resists, resist coating film, curable composition, composition for resist underlayer films, and resist underlayer film

WO2015008560 Art A1 22. Januar 2015

Anmelder: DIC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015008560
Aktenzeichen: EP14826604
Anmeldetag: 12. Juni 2014
Veröffentlichung: 22. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C07C39/14G03F7/023G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: DIC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 DIC Corporation

DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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