Resist composition for semiconductor manufacturing process; resist film, resist-coated mask blanks, photomask, and resist patterning method using said resist composition; electronic-device manufacturing method; and electronic device

WO2015008594 Art A1 22. Januar 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015008594
Aktenzeichen: EP14827137
Anmeldetag: 25. Juni 2014
Veröffentlichung: 22. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004H01L21/027G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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