Chemical mechanical polishing retaining ring methods and apparatus

WO2015009605 Art A1 22. Januar 2015

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015009605
Aktenzeichen: EP14826188
Anmeldetag: 14. Juli 2014
Veröffentlichung: 22. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/04B24B41/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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