Silica for cmp, aqueous dispersion, and process for producing silica for cmp

WO2015012118 Art A1 29. Januar 2015

Anmelder: Tokuyama Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015012118
Aktenzeichen: EP14828724
Anmeldetag: 10. Juli 2014
Veröffentlichung: 29. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B24B37/00C01B33/18C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokuyama Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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