Substrate with multilayered reflective film, reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, process for producing same, and process for producing semiconductor device

WO2015012151 Art A1 29. Januar 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015012151
Aktenzeichen: EP14829926
Anmeldetag: 15. Juli 2014
Veröffentlichung: 29. Januar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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