Reflection symmetric scatterometry overlay targets and methods

WO2015013621 Art A1 29. Januar 2015

Anmelder: KLA - Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015013621
Aktenzeichen
EP14829909
Anmeldetag
25. Juli 2014
Veröffentlichung
29. Januar 2015
Rechtsraum
WO
IPC
G01B11/00G01B11/24G03F7/00G03F7/20G03F1/00H01L21/66
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KLA - Tencor Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von

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