Component for a radiation source, associated radiation source and lithographic apparatus

WO2015014531 Art A1 5. Februar 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015014531
Aktenzeichen: EP14731246
Anmeldetag: 17. Juni 2014
Veröffentlichung: 5. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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