Mask paste composition, semiconductor element obtained using same, and method for producing semiconductor element

WO2015015642 Art A1 5. Februar 2015

Anmelder: Toray Industries, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015015642
Aktenzeichen: EP13890752
Anmeldetag: 2. August 2013
Veröffentlichung: 5. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/22H01L21/312H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toray Industries, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toray Industries

Japanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Tokio. Toray entwickelt Kohlefasern, synthetische Fasern, Kunststoffe, Chemikalien sowie Materialien für Textil-, Automobil-, Elektronik- und Luftfahrtindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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