Sputtering apparatus and target for sputtering

WO2015015775 Art A1 5. Februar 2015

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015015775
Aktenzeichen: EP14832596
Anmeldetag: 24. Juli 2014
Veröffentlichung: 5. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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