Pattern formation method, pattern, and etching method, electronic device manufacturing method, and electronic device using same

WO2015016191 Art A1 5. Februar 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015016191
Aktenzeichen: EP14831713
Anmeldetag: 28. Juli 2014
Veröffentlichung: 5. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/039G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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