Pattern formation method, active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2015016194 Art A1 5. Februar 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015016194
Aktenzeichen: EP14831710
Anmeldetag: 28. Juli 2014
Veröffentlichung: 5. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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