Photosensitive-Resin Composition

WO2015016362 Art A1 5. Februar 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015016362
Aktenzeichen: EP14832309
Anmeldetag: 1. August 2014
Veröffentlichung: 5. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F290/14C08G59/17G03F7/027G03F7/029H01L21/027H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von