Substrate support with surface feature for reduced reflection and manufacturing techniques for producing same

WO2015017094 Art A1 5. Februar 2015

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015017094
Aktenzeichen
EP14832726
Anmeldetag
9. Juli 2014
Veröffentlichung
5. Februar 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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