Method of designing lithography features by self-assembly of block copolymer

WO2015018590 Art A1 12. Februar 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015018590
Aktenzeichen: EP14736415
Anmeldetag: 9. Juli 2014
Veröffentlichung: 12. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: B81C1/00G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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