System and method for return beam metrology with optical switch

WO2015019187 Art A2 12. Februar 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015019187
Aktenzeichen: EP14815423
Anmeldetag: 30. Juli 2014
Veröffentlichung: 12. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇺🇸 USA

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von