Resist Underlayer Film Forming Composition Containing Polymer Which Contains Nitrogen-Containing Ring Compound

WO2015019961 Art A1 12. Februar 2015

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015019961
Aktenzeichen: EP14833969
Anmeldetag: 1. August 2014
Veröffentlichung: 12. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G59/42H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von