Method for producing silicon carbide semiconductor device
WO2015020219
Art A1
12. Februar 2015
Anmelder: Fuji Electric Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015020219
- Aktenzeichen
- EP14834241
- Anmeldetag
- 8. August 2014
- Veröffentlichung
- 12. Februar 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/28H01L21/336H01L29/12H01L29/41H01L29/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fuji Electric Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Electric
Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.
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