Photoresist resin composition for dry film photoresist
WO2015020445
Art A1
12. Februar 2015
Anmelder: Kolon Industries, Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015020445
- Aktenzeichen
- EP14834275
- Anmeldetag
- 7. August 2014
- Veröffentlichung
- 12. Februar 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kolon Industries, Inc.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Kolon Industries
Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.
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