Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system
WO2015022826
Art A1
19. Februar 2015
Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015022826
- Aktenzeichen
- EP14836707
- Anmeldetag
- 10. Juli 2014
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02G05B19/418
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SCREEN Holdings Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
SCREEN Holdings
Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.
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