Method for producing mold for nanoimprinting and anti-reflective article
WO2015022916
Art A1
19. Februar 2015
Anmelder: Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015022916
- Aktenzeichen
- EP14836092
- Anmeldetag
- 8. August 2014
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B29C59/04B29C33/38C25D11/16G02B1/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Rayon
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.
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