Substratbehandlungsvorrichtung

WO2015024762 Art A1 26. Februar 2015

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015024762
Aktenzeichen: EP14747633
Anmeldetag: 4. August 2014
Veröffentlichung: 26. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/458C23C16/46C23C16/52C30B25/10C30B29/40C23C16/30G05D23/00H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von