Silicon wafer heat treatment method

WO2015025448 Art A1 26. Februar 2015

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015025448
Aktenzeichen: EP14838046
Anmeldetag: 26. Juni 2014
Veröffentlichung: 26. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/324C30B29/06C30B33/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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