Diaphragm mounting member and charged particle beam device

WO2015025545 Art A1 26. Februar 2015

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015025545
Aktenzeichen: EP14837433
Anmeldetag: 10. März 2014
Veröffentlichung: 26. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/16H01J37/18H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von