Process substrate with crystal orientation mark, crystal orientation detection method, and crystal orientation mark reading device
WO2015025674
Art A1
26. Februar 2015
Anmelder: National Institute Of Advanced Industrial Science 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015025674
- Aktenzeichen
- EP14837412
- Anmeldetag
- 24. Juli 2014
- Veröffentlichung
- 26. Februar 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute Of Advanced Industrial Science
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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