Sputtering film formation device and sputtering film formation method

WO2015025823 Art A1 26. Februar 2015

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015025823
Aktenzeichen: EP14838331
Anmeldetag: 18. August 2014
Veröffentlichung: 26. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/00C23C14/04C23C14/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: V Technology Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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