Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, radiation-sensitive acid generating agent, acid diffusion control agent and compound

WO2015025859 Art A1 26. Februar 2015

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015025859
Aktenzeichen: EP14838363
Anmeldetag: 19. August 2014
Veröffentlichung: 26. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C59/21C07C69/36C07C69/757C07C309/12C07C309/17C07C327/22C07C381/12C07D307/00C07D307/33C07D307/77C07D309/30G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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