Mask blank, mask blank with negative resist film, phase shift mask, and method for producing patterned body using same

WO2015025922 Art A1 26. Februar 2015

Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015025922
Aktenzeichen: EP14838362
Anmeldetag: 21. August 2014
Veröffentlichung: 26. Februar 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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