Method for detecting ion-implantation blocking capability of photoresist layer

WO2015027577 Art A1 5. März 2015

Anmelder: BOE Technology Group Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015027577
Aktenzeichen: EP13892113
Anmeldetag: 19. November 2013
Veröffentlichung: 5. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: BOE Technology Group Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 BOE Technology

Chinesischer Elektronikkonzern mit Sitz in Peking, entwickelt und fertigt Display-Technologien wie LCD- und OLED-Bildschirme für Endgeräte und Industrieanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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